澤攸科技原位TEM測(cè)量系統(tǒng)推動(dòng)憶阻器機(jī)理可視化
隨著傳統(tǒng)馮·諾依曼結(jié)構(gòu)逐漸暴露出處理速度和能效的瓶頸，仿生神經(jīng)形態(tài)計(jì)算成為重要的替代路徑。
MORE INFO → TEM原位解決方案 2025-08-27
隨著傳統(tǒng)馮·諾依曼結(jié)構(gòu)逐漸暴露出處理速度和能效的瓶頸，仿生神經(jīng)形態(tài)計(jì)算成為重要的替代路徑。
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澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異。
MORE INFO → 其他 2025-08-27
臺(tái)階儀是一類基于接觸式探針掃描技術(shù)，實(shí)現(xiàn)樣品表面微觀形貌二維和三維特征量化分析的測(cè)量設(shè)備。
MORE INFO → 臺(tái)階儀 2025-08-27
澤攸科技ZEM系列臺(tái)式掃描電鏡是一款集成度高、便攜性強(qiáng)且經(jīng)濟(jì)實(shí)用的科研設(shè)備。它具備快速抽真空、高成像速度、多樣的信號(hào)探測(cè)器選擇，適用于形貌觀測(cè)和成分分析，還能適配多種原位實(shí)驗(yàn)需求。
MORE INFO → 掃描電子顯微鏡 2025-08-27
EBL憑借電子波長(zhǎng)短，不受衍射限制等優(yōu)勢(shì)，對(duì)比光學(xué)光刻具有更高的理論極限分辨率，常被用于掩模版制作和小批量器件研發(fā)制作等領(lǐng)域。
MORE INFO → 其他 2025-08-06
n型氧化物薄膜晶體管（TFTs）憑借優(yōu)異的遷移率、穩(wěn)定性以及低溫操作、經(jīng)濟(jì)性和成熟技術(shù)等優(yōu)勢(shì)，在電子產(chǎn)業(yè)化中得到廣泛應(yīng)用。
MORE INFO → 臺(tái)階儀 2025-08-06
氮摻雜石墨烯（N-doped graphene）作為一種無(wú)金屬催化劑或金屬納米顆粒載體，在電催化、光催化及環(huán)境凈化等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力。
MORE INFO → 掃描電子顯微鏡 2025-06-23
鐵電材料在致動(dòng)器、換能器和多層陶瓷電容器等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用，其性能調(diào)控對(duì)功能實(shí)現(xiàn)至關(guān)重要。
MORE INFO → TEM原位解決方案 2025-06-11