掃描電鏡中的電子束輻射損傷是指樣品在電子束照射下受到損害的現(xiàn)象。這種損傷通常表現(xiàn)為樣品表面的形貌變化、晶體結(jié)構(gòu)損壞、化學(xué)成分改變等。為了減輕掃描電鏡中的電子束輻射損傷，可以采取以下措施：

使用低電子束能量： 降低電子束的能量可以減少樣品的輻射損傷。選擇適當(dāng)?shù)募铀匐妷汉碗娮邮芰?，以減小對樣品的傷害。

使用低電子束強(qiáng)度： 降低電子束的強(qiáng)度可以減少輻射損傷。通過調(diào)整電子束的亮度和電流，以使其適應(yīng)樣品的需要，同時減小樣品的損傷。

使用低溫： 將掃描電鏡中的樣品置于低溫環(huán)境下可以減輕電子束輻射損傷。低溫可以降低樣品的熱能，減少電子束對樣品的熱損傷。

減少曝光時間： 將電子束的曝光時間盡可能縮短，以減少電子束對樣品的輻射損傷。只在必要時才進(jìn)行長時間曝光。

樣品預(yù)處理： 對樣品進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理，如涂覆金屬或碳薄膜、使用抗輻射涂料等，可以減輕電子束輻射損傷。

使用低真空或環(huán)境模式： 在某些情況下，將掃描電鏡設(shè)置為低真空或環(huán)境模式可以減輕輻射損傷，因為這些模式可以減少電子束與氣體相互作用。

注意電子束位置： 避免將電子束集中在樣品的同一區(qū)域，以分散輻射損傷。

定期校準(zhǔn)和維護(hù)： 確保掃描電鏡的性能處于很好的狀態(tài)，進(jìn)行定期的校準(zhǔn)和維護(hù)，以減少電子束輻射損傷的風(fēng)險。

ZEM20臺式掃描電鏡

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