減少掃描電子顯微鏡（SEM）中的電子束損傷對(duì)于保持樣品的結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分完整性至關(guān)重要，尤其是在研究敏感材料時(shí)。以下是一些減少電子束損傷的方法：

1. 降低加速電壓

降低電子能量：使用較低的加速電壓（例如 1-5 kV），可以減少電子束與樣品的相互作用，從而減少對(duì)樣品的損傷。這在觀察有機(jī)材料、聚合物、納米材料等易損樣品時(shí)尤其重要。

高分辨率與低電壓平衡：雖然低加速電壓會(huì)降低圖像的分辨率，但對(duì)于一些材料而言，這種權(quán)衡是必要的?？梢酝ㄟ^(guò)優(yōu)化其他成像參數(shù)（如探測(cè)器選擇、工作距離等）來(lái)彌補(bǔ)分辨率的損失。

2. 減少電子束曝光時(shí)間

快速掃描：縮短掃描時(shí)間，減少電子束在樣品上的駐留時(shí)間，可以有效降低累積的輻照劑量，從而減少損傷。

低劑量成像模式：某些 SEM 配備了低劑量成像模式，通過(guò)優(yōu)化掃描策略，減少對(duì)樣品的電子劑量暴露。

3. 使用間歇性掃描

逐步觀察：通過(guò)間歇性掃描，可以避免電子束長(zhǎng)時(shí)間集中在樣品的某一特定區(qū)域，給樣品足夠的時(shí)間來(lái)散熱和恢復(fù)，從而減少損傷。

移動(dòng)觀察區(qū)域：可以通過(guò)移動(dòng)觀察區(qū)域，分散電子束的影響，避免對(duì)某一區(qū)域的過(guò)度輻照。

4. 冷凍樣品

低溫 SEM（Cryo-SEM）：對(duì)樣品進(jìn)行冷凍處理，可以大幅減少電子束對(duì)樣品的損傷。冷凍狀態(tài)下，樣品的熱效應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都會(huì)減緩，減少了電子束引起的結(jié)構(gòu)變化。

冷卻臺(tái)：使用冷卻臺(tái)將樣品溫度降低到接近零下的環(huán)境中，可以在常規(guī) SEM 中減少損傷。

5. 涂層保護(hù)

金屬涂層：在樣品表面涂上一層導(dǎo)電的金屬薄膜（如金、鉑、鉻），可以減少電子束的直接作用。涂層不僅有助于減少樣品表面的充電效應(yīng)，還能散射部分電子，降低損傷。

碳涂層：對(duì)于對(duì)金屬涂層敏感的樣品，可以使用碳涂層，碳具有相對(duì)較低的原子序數(shù)，對(duì)圖像質(zhì)量的影響較小。

6. 選擇適當(dāng)?shù)奶綔y(cè)器

背散射電子探測(cè)器（BSE）：使用背散射電子探測(cè)器代替二次電子探測(cè)器（SE），因?yàn)锽SE模式下樣品表面的電子能量較低，可以減少損傷。

低劑量探測(cè)器：某些探測(cè)器專門設(shè)計(jì)用于低劑量成像，這些探測(cè)器能夠在較低的電子束劑量下提供高質(zhì)量的圖像，減少樣品損傷。

7. 優(yōu)化工作距離

增加工作距離：通過(guò)增加工作距離（樣品與物鏡之間的距離），可以擴(kuò)散電子束，降低每單位面積上的電子劑量，從而減少損傷。不過(guò)，這可能會(huì)降低圖像分辨率，需要在圖像質(zhì)量與樣品保護(hù)之間找到平衡。

8. 控制環(huán)境條件

真空條件優(yōu)化：在低真空模式下（環(huán)境掃描電鏡，ESEM），通過(guò)在樣品周圍引入適量的氣體（如水蒸氣），可以降低電子束引起的損傷，同時(shí)減少樣品的充電效應(yīng)。

環(huán)境控制：對(duì)于特定材料，保持樣品在特定的濕度和氣氛中（如氬氣或氮?dú)獗Ｗo(hù)）可以減少化學(xué)損傷。

9. 使用模擬與預(yù)實(shí)驗(yàn)

計(jì)算機(jī)模擬：通過(guò)模擬電子束與樣品的相互作用，可以預(yù)測(cè)不同實(shí)驗(yàn)條件下的損傷程度，從而優(yōu)化實(shí)驗(yàn)參數(shù)。

預(yù)實(shí)驗(yàn)：在不太重要或類似的樣品上進(jìn)行預(yù)實(shí)驗(yàn)，測(cè)試不同參數(shù)下的損傷情況，以便確定成像條件。

以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡的電子束損傷如何減少。更多掃描電鏡產(chǎn)品及價(jià)格請(qǐng)咨詢